德国Hellma氟化钙单晶产自耶拿核心生产基地，采用高精度Stockbarger高纯合成生长工艺，区别于天然萤石材料，从源头严控杂质含量，规避深紫外波段杂质吸收、晶格缺陷等问题。CaF₂为立方晶系光学单晶，具备无自然双折射的优异光学特性，光谱透光区间覆盖130nm至9μm，可稳定适配真空深紫外、可见光至中红外全波段光路，是极少数能够长期适配193nm深紫外严苛工况的高性能光学晶体。
针对193nm ArF激光专属应用场景，Hellma对氟化钙晶体进行品级细分，打造光刻专用级与通用紫外级两大核心品类，可适配不同激光功率、不同工作频次的设备工况。晶体成品加工灵活性极强，可制作圆形、方形及异形光学窗口片，尺寸规格全面可选，超大尺寸毛坯可满足大型工业设备的定制化需求，能够实现从实验室小型元件到半导体量产设备大型窗口片的全场景适配。
1 极致深紫外透过，降低光路能量损耗
常规光学玻璃与熔融石英在200nm以下深紫外波段透过率大幅衰减，存在严重的光束能量损耗，无法满足193nm高精度激光设备的使用需求。Hellma高纯合成CaF₂晶体在193nm波段具备近乎无损耗的透射特性，可最大程度保留激光光束能量，减少光路能量衰减与设备热积累。同时窗口片可匹配193nm专属增透镀膜工艺，进一步降低表面反射损耗，大幅提升光路系统的整体透光效率与工作稳定性。
2 超强激光抗疲劳，适配长期量产工况
半导体光刻、工业激光加工设备多为高重频、长时间连续工作模式，对光学窗口的抗激光老化性能要求严苛。Hellma光刻级氟化钙晶体通过晶格结构优化，内部缺陷密度极低，在193nm准分子激光持续辐照下，光学性能稳定无衰减，不会出现色心积累、透光率下降、光束畸变等问题，有效延长光学窗口的使用寿命，降低设备运维频次与生产成本，完全适配工业量产级连续工作工况。
3 高光学均匀性，保障精密光路精度
193nm光刻与精密检测系统对光束波前质量、成像精度要求极高，微小的光路畸变都会直接影响设备加工与检测精度。Hellma CaF₂晶体具备超高的折射率均匀性与极低的应力双折射特性，光线穿透窗口片后波前畸变可控，光束一致性极佳。同时可根据光路需求匹配专属晶向，有效优化深紫外光束传输效果，满足高精度光刻成像、深紫外干涉检测、精密激光传输系统的严苛精度要求。
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