德国 Hellma CaF2 193nm氟化钙 激光耐久度LD-A用于DUV 精密光学系统

分级定义（Hellma 内部激光耐久 4 级体系） LD‑A：Superior｜超高级，最高耐久 LD‑B：High｜高级 LD‑C：Advanced｜进阶级 LD‑D：Standard｜标准级Hellma Gro... LD‑A 193nm 核心指标 1.*脉冲耐受寿命：≥10⁹次 193nm 准分子激光脉冲长期辐照；长时间照射下抑制色心生成、不产生紫外吸收增长、光学性能无明显衰减，适配 7nm 及以下先进光刻物镜、光束传输组件 2. 激光损伤阈值 LIDT：193nm 典型值约 7 J/cm²（表面损伤阈值，表面缺陷 / 烧蚀起始点）；晶体本体可做到 > 10 J/cm²，<111> 晶向优先选用 3. 纯度控制：过渡金属、氧、羟基杂质严格控制在≤1ppm，从源头消除深紫外吸收中心，是 LD‑A 和 LD‑B/C/D 最核心差异点 4. 晶向推荐：优先选用<111> 晶向，应力双折射极低（≤0.5 nm/cm 典型），兼顾激光耐久与波前精度；也可提供 <100> 晶向，但激光耐久性能弱于 < 111> 5. 193nm 内透过率：>99.6%/cm，减少光路热累积，降低激光老化风险

Hellma LD-A 193nm氟化钙采用定向布里奇曼晶体生长工艺，搭配多级精密退火处理，行业优选<111>晶向制备，从晶体结构、杂质控制、应力优化多维度实现性能升级，适配严苛的DUV精密光学工况。 在深紫外透过性能方面，该品级氟化钙严格管控羟基、过渡金属等有害杂质，杂质总含量控制在极低水平，从源头消除深紫外波段光吸收中心。其193nm波段内部透过率可达99.6%/cm以上，大幅降低光路能量损耗，有效减少激光长期辐照产生的热累积，规避热畸变、热退色等光学失效问题。同时材料透光光谱覆盖真空紫外至红外波段，可兼容248nm KrF激光等多种紫外光学应用，适配多场景精密光路设计。 在光学精度方面，优化后的<111>晶向具备本征低应力特性，配合精密退火工艺，材料应力双折射≤0.5 nm/cm，折射率均匀性表现优异，可有效抑制光束传输过程中的波前畸变，降低偏振相关损耗，适配偏振敏感型DUV精密成像、高精度波前检测系统。此外，氟化钙材料具备超低色散特性，阿贝数高达95.23，可高效校正光学系统色差，简化光刻物镜、精密检测镜头的光学结构设计，保障纳米级超高成像分辨率。

产品质保12个月